Besuchen Sie uns auf der SEMICON China 2026

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Ausstellungsinformation

 

Da die Halbleiterindustrie in das Billionen-Dollar-Zeitalter eintritt, konzentriert sich die globale Innovationsdynamik zunehmend auf China. Als weltweit größte und umfassendste Veranstaltung der Halbleiterindustrie dient die SEMICON China nicht nur als Schaufenster für modernste Technologien, sondern auch als zentrale Plattform zur Förderung der globalen Zusammenarbeit entlang der gesamten Branche. Die SEMICON China 2026 wird mehr als 1.100 führende Unternehmen und über 100.000 Branchenfachleute zusammenbringen. Mit über 20 hochrangigen technischen Foren wird die Veranstaltung wichtige Zukunftstrends wie 2-nm-Prozesstechnologie, RISC-V-Architektur, Micro-LED und CO²-Neutralität in den Mittelpunkt stellen und den intensiven Austausch sowie die Zusammenarbeit entlang der Halbleiter-Wertschöpfungskette fördern.

Datum: 25.–27. März 2026

Veranstaltungsort: Shanghai New International Expo Center

FITOK Messestand: 6663 (Halle E6)

 

SEMICON China 2026 Ausstellungsplan

 

FITOK Messen

 

Als weltweit anerkannter Anbieter von Fluid-Systemlösungen für die Halbleiterindustrie bietet FITOK ein umfassendes Sortiment an Ultra-High-Purity-Produkten, darunter Verschraubungen, Ventile und Rohre, sowie integrierte Systeme und Dienstleistungen – von der Systemplanung bis hin zur Installation vor Ort. Unsere Lösungen unterstützen die gesamte Halbleiter-Wertschöpfungskette – von der Herstellung von Halbleiterrohstoffen über die Fertigung von Halbleiterausrüstung und den Halbleiterproduktionsprozess bis hin zum Bau und zur Wartung von Rohrleitungssystemen in Halbleiterfabriken. Wir haben enge Partnerschaften mit renommierten Unternehmen der Halbleiterindustrie aufgebaut, und unsere Produkte werden in zahlreichen kritischen Fertigungsprozessen eingesetzt, darunter Dünnschichtabscheidung, Ätzen, Ionenimplantation und CMP (Chemical Mechanical Planarization).

 

Auf der SEMICON China 2026 wird FITOK eine Reihe von Innovationen und Technologien präsentieren, die speziell für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurden, darunter: Frontdichtverschraubungen, Schweißverschraubungen, Zylinderanschlüsse, Schnellkupplungen, Schlauchbaugruppen, Membranventile, Rückschlagventile, Kugelhähne für Hohe Reinheit, Druckregler, Faltenbalgventile, Rohre für Hohe Reinheit, Entnahmestick-Baugruppen, Integrierte Gassysteme.

 

Messen-Highlights:

 

Hochvakuum-Faltenbalgventile

Hochvakuum-Faltenbalgventile

 

  • Vakuumbereich: 1,0 × 10-9 Torr bis 760 Torr
  • Geformte Faltenbälge aus 316L-Edelstahl reduzieren Partikelbildung und Partikeleinschlüsse
  • Ventilkörper mit Wolfram-Inertgas-Schweißen (TIG) gefertigt, um eine optimierte Schweißstruktur zu gewährleisten, interne Toträume zu eliminieren und hohe Reinheit sicherzustellen
  • Erhältlich in Winkel- oder Inline-Ausführung; in jeder Einbaulage montierbar
  • Geringes Innenvolumen bei kompakter Bauweise
  • Verschiedene Anschlussgrößen und -typen verfügbar
  • Pneumatische oder manuelle Antriebe erhältlich
  • Lebensdauer von bis zu 1.000.000 Schaltzyklen in sauberen Umgebungen bei Raumtemperatur

 

Membranventile zur Atomlagenabscheidung ALD-Serie

 

  • Extrem lange Lebensdauer (sehr hohe Schaltzyklenzahl)
  • Schnelle Betätigung zur Erfüllung der Anforderungen des ALD-Prozesses
  • Totraumfreier Durchflusskanal zur Gewährleistung der Medienreinheit
  • Hohe Konsistenz und Stabilität des Cv-Werts für eine stabile Precursor-Versorgung
  • Erhältlich in Standard-, Thermal- und Thermal-Immersion-Ausführungen

Membranventile zur Atomlagenabscheidung ALD-Serie

 

Flexible Metallschläuche HMF-Serie

Flexible Metallschläuche HMF-Serie

 

  • Kernmaterial: Edelstahl 316L
  • Material der Endanschlüsse: Edelstahl 316 oder 316L
  • Nennschlauchgrößen: 1/4" bis 1/2"
  • Betriebsdruckbereich: Vakuum bis 135 psig (9,3 bar)
  • Vollmetallkonstruktion, geeignet für Anwendungen mit strengen Anforderungen an Medienpermeation
  • Optionaler zusätzlicher Helium-Lecktest mit einer Leckrate von ≤ 1 × 10-9 std·cm3/s
  • Kundenspezifische Längen verfügbar

 

Integrierte Gassysteme

 

  • Modulares Design zur Verkürzung der Systemauslegungszeit
  • Oberflächenmontage für einfache Installation und Wartung
  • Kompakte Baugröße, ideal für Anwendungen mit begrenztem Bauraum
  • Elektropolierter Durchflusskanal mit einer Oberflächenrauheit von weniger als Ra 5 μin (0,13 μm)
  • W-Dichtung- und C-Dichtung-Anschlüsse optional verfügbar

Integrierte Gassysteme

 

Besuchen Sie FITOK am Stand 6663, um zu entdecken, wie unsere High-Purity-Fluid-Systemlösungen die fortschrittliche Halbleiterfertigung unterstützen. Unsere technischen Spezialisten stehen Ihnen vor Ort zur Verfügung, um Anwendungseinblicke zu teilen, aktuelle Prozessherausforderungen zu diskutieren und zu zeigen, wie sich die Technologien von FITOK in Ihre Projekte integrieren lassen. Wir freuen uns darauf, Sie auf der SEMICON China 2026 zu treffen und gemeinsam Innovation und nachhaltiges Wachstum in der globalen Halbleiterindustrie voranzutreiben.

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