FP-Serie Filter für Ultrahochreine Anwendungen verfügen über eine Abscheiderate von 0,003 µm. Mit einem PTFE-Filterelement ausgestattet, bieten diese Filter eine hervorragende chemische Beständigkeit und sind somit ideal für die Filtration von Gasen in verschiedenen Halbleiterfertigungsprozessen wie CVD, PVD und Trockenätzen geeignet.

Merkmale

Hervorragende chemische Beständigkeit
100 % Helium-Leckprüfung
Partikelabscheiderate von ≥ 0,003 µm mit einer Filtereffizienz von über 99,9999999 % bei maximaler Durchflussrate

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