Halbleiteranwendung – FITOK ALD-Serie Membranventile für die Atomlagenabscheidung

ALD-Serie

 

Einführung

 

 

Die Atomlagenabscheidung (ALD) ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner Schichten auf unterschiedlichen Substraten mit Präzision im atomaren Maßstab. Da die Strukturgrößen von Chips kontinuierlich schrumpfen, stoßen herkömmliche Abscheidungstechniken an ihre Grenzen. Die Abscheidung ultradünner Schichten im Nanometerbereich erfordert die ALD-Technologie, bei der Materialien Schicht für Schicht – jeweils in einzelnen Atomlagen – aufgebracht werden. Membranventile der ALD-Serie werden eingesetzt, um während des Abscheidungsprozesses, der zur Herstellung von Halbleiterchips verwendet wird, präzise Gasdosierungen bereitzustellen.

 

Merkmale

 

 

  • Extrem lange Lebensdauer bei hohen Schaltzyklen
  • Totraumfreier Durchflusskanal
  • Hohe Cv-Konsistenz und Stabilität
  • Schnelle Reaktionszeit mit einer Gesamtöffnungs-/Schließzeit von unter 15 ms
  • Standard- und thermische Ausführung optional erhältlich; die thermische Ausführung ist für Betriebstemperaturen bis 392 °F (200 °C) geeignet
  • Bei Ventilen mit Magnetventil kann dieses entlang des Antriebsgehäuses umlaufend gedreht werden, um eine einfache Positionsanpassung zu ermöglichen

 

Technische Daten

 

 

ALD-Serie

 

Anwendung

 

 

Geeignet für Atomlagenabscheidungs- (ALD-) Prozesse in folgenden Bereichen der Halbleiterindustrie:

 

  • High-k-Dielektrika und Metall-Gate-Strukturen
  • MEMS (Mikroelektromechanische Systeme)
  • Optoelektronische Materialien und Bauelemente
  • Diffusionsbarrieren für Interconnect-Leitungen in integrierten Schaltungen
  • Flachbildschirme (organische Leuchtdioden-Materialien, OLED)
  • Optische Bauelemente
  • Solarzellen
  • Verschiedene Dünnschichten (< 100 nm)

 

Weitere Informationen finden Sie im Produktkatalog. Sollten Sie Fragen haben, kontaktieren Sie uns bitte direkt. Wir werden uns schnellstmöglich mit Ihnen in Verbindung setzen.

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