Produktneueinführung: FITOK Filter für Ultrahohe Reinheit

FITOK Filter für Ultrahohe Reinheit

 

Einführung

 

 

Die Filter für Ultrahohe Reinheit der FITOK FP-Serie verfügen über eine Abscheidefeinheit von 0,003 μm. Ausgestattet mit einem PTFE-Filterelement bieten diese Filter eine hervorragende chemische Beständigkeit und eignen sich ideal zur Filtration von Gasen in verschiedenen Halbleiterfertigungsprozessen wie CVD (Chemical Vapor Deposition), PVD (Physical Vapor Deposition) und Trockenätzen.

 

Merkmale

 

 

  • Partikelrückhaltevermögen ≥ 0,003 μm mit einer Filtrationseffizienz von über 99,9999999 % bei maximalem Durchfluss
  • Hervorragende chemische Beständigkeit
  • 100 % Helium-Leckprüfung durchgeführt

 

Technische Daten

 

 

 
Material Filterelement PTFE
Stützung PFA
Gehäuse Edelstahl 316L oder 316L VAR
Entfernungsrate ≥ 0.003 μm
Filtereffizienz (Logarithmischer Reduktionswert) > 99.9999999% (9LRV)
Heliumleckrate < 1×10-9 std cm3/s
Empfohlene Betriebsdurchfluss 0~60 slpm
(0~2.1 scfm)
0~120 slpm
(0~4.2 scfm)
0~500 slpm
(0~17.7 scfm)
0~1000 slpm
(0~35.3 scfm)
Max. Betriebsdruck 3000 psig ((207 bar)) 1000 psig ((68.9 bar))
Max. Positiver Differentialdruck 58 psig (4 bar) @ 23 °C 87 psig (6 bar) @ 23 °C
Max. Negativer Differentialdruck 10 psig (0.7 bar) @ 23 °C 44 psig (3 bar) @ 23 °C
Max. Betriebstemperatur -22 ~ 248 °F (-30 ~ 120 °C)

 

Weitere Informationen finden Sie im Katalog der FP-Serie Filter für Ultrahohe Reinheit. Sollten Sie Fragen haben, kontaktieren Sie uns bitte direkt. Wir werden uns schnellstmöglich mit Ihnen in Verbindung setzen.

Passwort-Anmeldung

|

Anmeldung per Verifizierungscode

Anfrageliste

    Ihre Anfrageliste ist leer

    Anfrage senden

      1 Produkt wurde zur Anfrageliste hinzugefügt.

      Teilenummer:

      Menge:

      Ihre Anfrageliste —